| 发明名称 | 用于抛光多晶硅的化学机械抛光液 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种用于抛光多晶硅的化学机械抛光液，该抛光液包括研磨颗粒和水，其还包括一种或多种多元醇型非离子表面活性剂。本发明的抛光液是可以在碱性条件下较好地抛光多晶硅薄膜的新型的化学机械抛光液。并且还可以显著降低多晶硅的去除速率，调节多晶硅与二氧化硅的选择比，显著提高多晶硅的平坦化效率。 | ||
| 申请公布号 | CN101153206A | 申请公布日期 | 2008.04.02 |
| 申请号 | CN200610116747.9 | 申请日期 | 2006.09.29 |
| 申请人 | 安集微电子（上海）有限公司 | 发明人 | 荆建芬;王麟;杨春晓 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01);H01L21/302(2006.01) | 主分类号 | C09G1/02(2006.01) |
| 代理机构 | 上海虹桥正瀚律师事务所 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | 1.一种用于抛光多晶硅的化学机械抛光液，该抛光液包括研磨颗粒和水，其特征在于：还包括一种或多种多元醇型非离子表面活性剂。 | ||
| 地址 | 201203上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5楼613－618室 | ||