发明名称 流体机械的密封装置
摘要 本发明涉及一种流体机械的密封装置,包括固定构件;运动构件,其顶部端面在固定构件的内表面上滑动;和要装入密封槽中的密封构件,所述密封槽沿着顶部端面脊线刻在顶部端面上,利用预定作用力将密封构件的滑动接触面压在固定构件的内表面上以在该内表面上滑动,从而确保密封构件的滑动接触面和固定构件的内表面之间的流体密封;其中,密封构件分为上环和下环两个部分,上环接触滑动接触面,下环面向密封槽底面;并且由弹性材料制成的支撑环要装入用于支撑环的槽中,所述用于支撑环的槽沿着滑动接触面的纵向刻在位于不面向密封槽的位置处的上环和下环的分离表面上。
申请公布号 CN101153594A 申请公布日期 2008.04.02
申请号 CN200710167654.3 申请日期 2007.09.27
申请人 阿耐思特岩田株式会社 发明人 藤冈完
分类号 F04C18/02(2006.01);F04C27/00(2006.01) 主分类号 F04C18/02(2006.01)
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 曲莹
主权项 1.一种流体机械的密封装置,该密封装置包括:固定构件;运动构件,其端面在固定构件的内表面上滑动;和要装入密封槽中的密封构件,所述密封槽沿着端面脊线刻在端面上,利用预定作用力将所述密封构件的滑动接触面压在固定构件的内表面上以在该内表面上滑动,从而确保密封构件的滑动接触面和固定构件的内表面之间的流体密封;其中,所述密封构件在平行于滑动接触面的平面内分为上环和下环两个部分,上环接触滑动接触面,下环面向密封槽底面;并且由弹性材料制成的支撑环要装入用于支撑环的槽中,所述用于支撑环的槽沿着滑动接触面的纵向刻在位于不面向密封槽的位置处的上环和下环的分离表面上。
地址 日本神奈川县