| 发明名称 | 标线及其制造方法 | ||
| 摘要 | 公开了标线及其制造方法。标线包括形成在透明衬底上的介质层、在介质层上彼此之间以预定间隔隔开的铬层图案和形成的框架和保护层，以包围所得的结构。制造标线的方法包括如下步骤：在透明衬底上形成介质层；在介质层上形成铬层；图案化铬层，从而形成彼此之间以预定间隔隔开的铬层图案；和连接框架和保护层，以包围所得结构。提高了分辨率以及从标线输出的光的聚焦度。 | ||
| 申请公布号 | CN101154030A | 申请公布日期 | 2008.04.02 |
| 申请号 | CN200710000706.8 | 申请日期 | 2007.01.10 |
| 申请人 | 海力士半导体有限公司 | 发明人 | 崔铁赞 |
| 分类号 | G03F1/08(2006.01);G03F1/00(2006.01);G03F7/20(2006.01);G03F7/00(2006.01);H01L21/027(2006.01);H01L21/00(2006.01) | 主分类号 | G03F1/08(2006.01) |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 杨生平;杨红梅 |
| 主权项 | 1.一种标线，包含：形成在透明衬底上的介质层；在所述介质层上彼此之间以预定间隔隔开的铬层图案；和形成的框架和保护层，以包围由所述介质层、所述透明结构和所述铬层图案形成的结构。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道利川市 | ||