| 发明名称 | 微波等离子体处理装置、电介质窗制造方法和微波等离子体处理方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种抑制气体的流速的微波等离子体处理装置。微波等离子体处理装置(100)具有：通过缝隙天线(30)透过微波的由多个电介质零件(310)构成的电介质窗；固定在梁(26)下面的多个气体喷嘴(27)；供给规定的气体的气体供给部；用透过电介质窗的微波使规定的气体成为等离子体，对被处理体进行处理的处理室(U)。各电介质零件(31)具有：具有第一气孔率的第一多孔材料(31Ph)；和连接于第一多孔材料(31Ph)并且具有小于第一气孔率的第二气孔率的第二多孔材料(31P1)。气体供给部通过第一多孔材料(31Ph)，从第二多孔材料(31P1)将氩气导入处理室内(U)，并从气体喷嘴(27)将硅烷气体导入处理室内(U)。 | ||
| 申请公布号 | CN101155463A | 申请公布日期 | 2008.04.02 |
| 申请号 | CN200710163060.5 | 申请日期 | 2007.09.29 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社;国立大学法人东北大学 | 发明人 | 堀口贵弘;大见忠弘;平山昌树 |
| 分类号 | H05H1/46(2006.01);H01L21/00(2006.01);H01L21/02(2006.01);H01L21/205(2006.01);C23C16/511(2006.01) | 主分类号 | H05H1/46(2006.01) |
| 代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人 | 龙淳 |
| 主权项 | 1.一种微波等离子体处理装置，其特征在于，具有：使微波传播的缝隙天线；使所述缝隙天线传播的微波透过的电介质窗；供给规定的气体的气体供给部；和由透过所述电介质窗的微波，使所述规定的气体成为等离子体，对被处理体进行处理的处理室；其中，所述电介质窗具有：具有第一气孔率的第一多孔质体；和连接于所述第一多孔质体并且具有小于所述第一气孔率的第二气孔率的第二多孔质体，所述气体供给部，将所述规定的气体，通过所述第一多孔质体，从所述第二多孔质体导入所述处理室内。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||