| 发明名称 | 基板处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种基板处理装置，防止由在基板表面形成的复杂构造(沟道和空穴)引起的干燥不良。在处理槽(31)中用纯水对基板(9)进行的清洗处理结束后，通过从酒精供给部(37)向处理槽(31)供给酒精，用酒精置换处理槽(31)内的处理液(91)。在容器(40)内的处理槽(41)中对基板(9)进行利用氟系溶剂液体的清洗，然后，从处理槽(41)中提升基板(9)，在容器(40)内用氟系溶剂的气体进行干燥处理。 | ||
| 申请公布号 | CN101154564A | 申请公布日期 | 2008.04.02 |
| 申请号 | CN200710154356.0 | 申请日期 | 2007.09.26 |
| 申请人 | 大日本网目版制造株式会社 | 发明人 | 基村雅洋 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01);H01L21/02(2006.01);H01L21/30(2006.01);H01L21/306(2006.01);H01L21/67(2006.01);B08B3/04(2006.01);F26B21/14(2006.01) | 主分类号 | H01L21/00(2006.01) |
| 代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人 | 徐恕 |
| 主权项 | 1.一种基板处理装置，对基板进行处理，其特征在于，包括：处理槽，其贮存氟系溶剂的液体；容器，其收容所述处理槽；保持机构，其在所述容器内处于保持着基板的状态下，使基板在设置于所述处理槽内的第一位置和设置于所述处理槽上方的第二位置之间移动；气体供给装置，其使保持着在所述第一位置通过氟系溶剂的液体而被处理过的基板的所述保持机构从所述第一位置向所述第二位置移动，并向所述保持机构上所保持的基板供给氟系溶剂的气体。 | ||
| 地址 | 日本京都府京都市 | ||