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发明名称 Apparatus and method for coating photo-resist by silt scan and spin, and blank mask having a photo-resist film coated by the method and photo mask manufactured by using the same
摘要
申请公布号 KR100818671(B1) 申请公布日期 2008.04.02
申请号 KR20060048809 申请日期 2006.05.30
申请人 发明人
分类号 G03F7/16;H01L21/027 主分类号 G03F7/16
代理机构 代理人
主权项
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