发明名称 硅甲烷输送及处理系统及硅甲烷输送及处理方法
摘要 本发明涉及一种硅甲烷输送及处理系统,包括一硅甲烷储存容器、一输送管路、一燃烧室、一旁通管路及一风车。硅甲烷储存容器储存有硅甲烷气体。输送管路连接于硅甲烷储存容器,用来输送硅甲烷气体。燃烧室具有一入口及一出口,入口与出口相对。旁通管路连接于输送管路与燃烧室的入口之间,用来将输送管路中的硅甲烷气体输送至燃烧室之中。风车设置于燃烧室的出口上,用来从燃烧室的入口抽取空气至燃烧室之中。燃烧室的入口处的空气流动方向与由旁通管路所输送至燃烧室的入口处的硅甲烷气体的流动方向同流。
申请公布号 CN101153687A 申请公布日期 2008.04.02
申请号 CN200610139917.5 申请日期 2006.09.26
申请人 财团法人工业技术研究院;昆山科技大学 发明人 李崑池;林瑞玉;王世煌
分类号 F17D1/02(2006.01);F17D3/03(2006.01) 主分类号 F17D1/02(2006.01)
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 封新琴;巫肖南
主权项 1.一种硅甲烷输送及处理系统,包括:一硅甲烷储存容器,其储存有硅甲烷气体;一输送管路,连接于该硅甲烷储存容器,用来输送该硅甲烷气体;一燃烧室,具有一入口以及一出口,其中,该入口与该出口相对;一旁通管路,连接于该输送管路与该燃烧室的该入口之间,用来将该输送管路中的该硅甲烷气体输送至该燃烧室之中;以及一风车,设置于该燃烧室的该出口上,用来从该燃烧室的该入口抽取空气至该燃烧室之中,其中,该燃烧室的该入口处的空气流动方向与由该旁通管路所输送至该燃烧室的该入口处的该硅甲烷气体的流动方向同流。
地址 中国台湾新竹县
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