| 发明名称 | 使用透明基板制造多晶硅膜的方法和装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种使用透明基板制造多晶硅膜的方法和装置。所述方法包含：在所述透明基板的表面上形成光吸收层；并使用快速热处理(RTP)光源的辐射加热所述光吸收层，同时沉积所述多晶硅膜于该光吸收层上。 | ||
| 申请公布号 | CN101156247A | 申请公布日期 | 2008.04.02 |
| 申请号 | CN200680010952.5 | 申请日期 | 2006.11.14 |
| 申请人 | 波音特工程股份有限公司 | 发明人 | 安范模 |
| 分类号 | H01L29/786(2006.01) | 主分类号 | H01L29/786(2006.01) |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 程大军 |
| 主权项 | 1.一种使用透明基板制造多晶硅膜的方法，所述方法包括：在所述透明基板的表面上形成光吸收层；并使用快速热处理(RTP)光源的辐射加热所述光吸收层，同时沉积所述多晶硅膜于该光吸收层上。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||