| 发明名称 |
Method and apparatus for measuring the endpoint of a plasma etch process |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
IES20070064(A2) |
申请公布日期 |
2008.04.02 |
| 申请号 |
IES20070064 |
申请日期 |
2007.02.02 |
| 申请人 |
LEXAS RESEARCH LTD. |
发明人 |
SHANE GLYNN;FELIPE SOBERON;STEPHEN DANIELS |
| 分类号 |
G01N21/71;H01J37/32;H01L21/02 |
主分类号 |
G01N21/71 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
