发明名称 透光性陶瓷、光学零件及光学装置
摘要 本发明系提供一种阿贝数高、有利于修正像差、且可简便地制造之透光性陶瓷。该透光性陶瓷之特征为,主成分系由一般式:Y3AlvOw(满足4.4≦v≦5.4之条件,w系用以保持电中性之正数)表示之石榴石型化合物,且Y3AlvOw中,Al之一部分或全部由Ga取代。例如于单眼相机用之光学系统等高斯型透镜光学系统(20)中,上述透光性陶瓷较佳地适用于夹持光圈(28)而配置之透镜(22、25)。
申请公布号 TW200815306 申请公布日期 2008.04.01
申请号 TW096120922 申请日期 2007.06.11
申请人 村田制作所股份有限公司 发明人 林刚司;金高佑仁
分类号 C04B35/44(2006.01);G02B1/02(2006.01) 主分类号 C04B35/44(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 日本