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发明名称
透光性陶瓷、光学零件及光学装置
摘要
本发明系提供一种阿贝数高、有利于修正像差、且可简便地制造之透光性陶瓷。该透光性陶瓷之特征为,主成分系由一般式:Y3AlvOw(满足4.4≦v≦5.4之条件,w系用以保持电中性之正数)表示之石榴石型化合物,且Y3AlvOw中,Al之一部分或全部由Ga取代。例如于单眼相机用之光学系统等高斯型透镜光学系统(20)中,上述透光性陶瓷较佳地适用于夹持光圈(28)而配置之透镜(22、25)。
申请公布号
TW200815306
申请公布日期
2008.04.01
申请号
TW096120922
申请日期
2007.06.11
申请人
村田制作所股份有限公司
发明人
林刚司;金高佑仁
分类号
C04B35/44(2006.01);G02B1/02(2006.01)
主分类号
C04B35/44(2006.01)
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
日本
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