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发明名称
黏贴晶圆之制造方法
摘要
本发明提供一种薄膜化后的膜厚均匀性优是不用说的,并使表面粗糙度良好且缺陷为少黏贴晶圆。本发明针对由在黏贴活性层用晶圆与支撑层用晶圆后,薄膜化活性层用晶圆所构成的黏贴晶圆之制造方法,在活性层用晶圆中注入氧离子,并在活性层内形成氧离子注入层后,在非氧化性环境中以 1100℃ 以上的温度,施予热处理的同时,且将形成在氧离子注入层的露出面之氧化膜除去后,在非氧化环境中以 1100℃ 以下的温度,施予热处理。
申请公布号
TW200816368
申请公布日期
2008.04.01
申请号
TW096124368
申请日期
2007.07.04
申请人
胜高股份有限公司
发明人
森本信之;远藤昭彦;森田悦郎
分类号
H01L21/76(2006.01);H01L21/84(2006.01);H01L27/12(2006.01)
主分类号
H01L21/76(2006.01)
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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