处理气流的方法

摘要

本发明描述一种用于处理气流之装置。该装置包含：一气体通路，其用于接收该气流；复数个中空阴极，位于该气体通路周围；供应构件，其用于向该等中空阴极供应一用于与该气流之一组份反应之反应物种之气态来源；用于施加电位之构件，其用于将一电位施加至该等中空阴极以自该来源形成该等反应物种；及一反应腔室，其用于接收该气流及该等反应物种。