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发明名称
使用电镀法形成填入凹陷区的金属内连线的方法
摘要
揭露一种金属(例如,铜)内连线以及相关制造方法,其中藉由在电镀金属层以填入凹陷部之前电镀形成于基板中之凹陷部上之晶种层来形成金属内连线。
申请公布号
TW200816376
申请公布日期
2008.04.01
申请号
TW096113314
申请日期
2007.04.16
申请人
三星电子股份有限公司
发明人
吴晙焕;金亨植;郑周赫;金一球
分类号
H01L21/768(2006.01);C25D3/38(2006.01)
主分类号
H01L21/768(2006.01)
代理机构
代理人
詹铭文;萧锡清
主权项
地址
韩国
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