光阻图案增厚材料、形成光阻图案之方法、半导体元件及其制造方法

摘要

本发明提供一种可利用 ArF 准分子雷射光之光阻图案增厚材料，此准分子雷射光当应用在欲增厚的光阻图案上时，例如线条及空间图案形成，不论欲增厚之光阻图案的尺寸，可增厚欲增厚之光阻图案，以及此准分子雷射光超越曝光限制，适用于形成精细之空间图案或类似物。本发明亦提供形成光阻图案之方法及制造半导体元件之方法，其中适当地应用本发明的光阻图案增厚材料。