| 主权项 |
1.一种液体分析装置,其包含: 一定量取样装置,该定量取样装置包含一内管、一 外管,该内管系设置于该外管之内,且该内管系垂 直设置且具有一顶部开口与一底部排放口,该底部 排放口系连接一出水管路,该出水管路设有一水样 流体开关,该外管则连接一取样管路,且设有一取 样流体开关,并让该外管与该取样管路的连接处高 于该内管之顶部开口,又该外管之底部连接有一水 样排放管,该水样排放管设有一水样排放流体开关 ; 一反应槽,该反应槽之底部设一排放口,该内管之 该底部排放口系伸入该反应槽内。 2.如申请专利范围第1项所述之液体分析装置,其中 更包含: 一稀释水管路,该稀释水管路系伸入该反应槽内, 且具有一稀释水流体开关控制稀释水是否进入该 反应槽; 一虹吸管路,该虹吸管路系由该反应槽的底部埋入 该反应槽内,该虹吸管路于该反应槽内朝上再朝下 转折而形成倒钩形状并形成一虹吸顶端与一朝下 之虹吸口,且该虹吸口设于该反应槽的一预定高度 位置上; 一浮球式液位感测器,该浮球式液位感测器系伸入 该反应槽内且具一感应浮球,该感应浮球设于该反 应槽的预定高度位置上; 一抽水管路,该抽水管路系伸入该反应槽内,该抽 水管路具有一朝下之抽水口,该抽水口设于该反应 槽的预定高度位置上。 3.如申请专利范围第2项所述之液体分析装置,其中 该反应槽的底部更埋入一溢流管路进入该反应槽 内,该溢流管路具一朝上之溢流口,且该溢流口的 位置系高于该虹吸顶端。 4.如申请专利范围第2项所述之液体分析装置,其中 该反应槽内更伸入有一感测器,且该反应槽内更设 有一磁石搅拌子,该反应槽系设于一磁石搅拌器上 。 5.如申请专利范围第4项所述之液体分析装置,其中 该感测器可为PH电极、氧化还原电极、离子选择 电极与光学感测系统的任一种。 6.如申请专利范围第4项所述之液体分析装置,其中 该反应槽底部设一容置凹穴,该容置凹穴供设该磁 石搅拌子,且该反应槽之该排放口连接至该容置凹 穴。 7.如申请专利范围第1项所述之液体分析装置,其中 该外管设有一溢流口,且该溢流口高于该内管之顶 部开口。 8.如申请专利范围第1项所述之液体分析装置,其中 该外管连接一清洗水管路,该清洗水管路设有一清 洗水流体开关。 9.如申请专利范围第1项所述之液体分析装置,其中 该外管连接一标准液管路,该标准液管路设有一标 准液流体开关。 10.如申请专利范围第1项所述之液体分析装置,其 中该外管设有一光电液位感测器。 图式简单说明: 第1图,系本创作定量取样装置系统结构图。 第2图,系本创作光电液位感测器启动水位示意图 。 第3图,系本创作水样溢流示意图。 第4-1图,系本创作取样示意图一。 第4-2图,系本创作取样示意图二。 第5图,系本创作稀释分析装置之结构图。 第6图,系本创作产生虹吸效应之液位示意图。 第7图,系本创作虹吸效应结束之液位示意图。 第8图,系本创作启动浮球式液位感测器且尚未产 生虹吸效应之液位示意图。 第9图,系本创作液体分析装置实施图一。 第10图,系本创作液体分析装置实施图二。 第11图,系本创作反应槽之底部结构图。 |
