发明名称 液处理系统
摘要 液处理系统具备:液处理部(21b),其系水平配置有对基板(W)供给处理液来进行液处理的复数个液处理单元(22);处理液存积部(21h),其系存积供给至液处理部的复数个液处理单元的处理液;配管单元(21f),其系具有从处理液存积部往复数个液处理单元引导处理液的供给配管;及共通的框体(21),其系收容液处理部、处理液存积部、及配管单元。又,处理存积部、配管单元、及液处理部系从下方依序配置,配管单元的供给配管具有沿着复数个液处理单元的配列方向来水平延伸的水平配管部(70a),从水平配管部往液处理单元来分别导入处理液。
申请公布号 TW200816299 申请公布日期 2008.04.01
申请号 TW096127064 申请日期 2007.07.25
申请人 东京威力科创股份有限公司 发明人 松本和久;金子聪;饱本正巳;户岛孝之;伊藤规宏
分类号 H01L21/304(2006.01) 主分类号 H01L21/304(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本