| 摘要 |
本发明提供一种用于以曝光设备使基板曝光时计算对于聚焦量或曝光剂量的校正量之方法，该方法包含：储存步骤，储存数组各为设定聚焦量、设定曝光剂量、及图案的第一影像资讯的组合，该图案系以该设定聚焦量及该设定曝光剂量经由曝光而形成在该基板上，该数组具有不同聚焦量及/或不同曝光剂量；获得步骤，获得经由另一曝光而形成在该基板上之图案的第二影像资讯；选择步骤，寻找获得于该获得步骤的该第二影像资讯及存于该储存步骤的该数组中的该第一影像资讯间之关联值，以及选择该数组中选择具有二个最高关联值的至少二组；及计算步骤，使用该选择步骤所选的该至少两组中的该等聚焦量或该等曝光剂量来计算该校正量。 |
