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发明名称
多层之硫族化合物装置
摘要
一种多层硫族化合物电子装置。此装置包含与两端点作电交流之主动区,其中此主动区包含两或更多膜层。在一实施例中,孔洞区包含化学组成不同之两或更多硫族化合物材料。在另一实施例中,孔洞区包含一或多硫族化合物材料及一 Sb 膜层。此装置提供了下列优点:最少的调整需求、快速的设置速度、高重置电阻及低设置电阻。
申请公布号
TW200816471
申请公布日期
2008.04.01
申请号
TW096121144
申请日期
2007.06.12
申请人
奥佛尼克公司
发明人
桑杜沃;寇斯利;克巴特;罗泰勒
分类号
H01L29/02(2006.01)
主分类号
H01L29/02(2006.01)
代理机构
代理人
蔡中曾;黄庆源
主权项
地址
美国
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