发明名称 多层之硫族化合物装置
摘要 一种多层硫族化合物电子装置。此装置包含与两端点作电交流之主动区,其中此主动区包含两或更多膜层。在一实施例中,孔洞区包含化学组成不同之两或更多硫族化合物材料。在另一实施例中,孔洞区包含一或多硫族化合物材料及一 Sb 膜层。此装置提供了下列优点:最少的调整需求、快速的设置速度、高重置电阻及低设置电阻。
申请公布号 TW200816471 申请公布日期 2008.04.01
申请号 TW096121144 申请日期 2007.06.12
申请人 奥佛尼克公司 发明人 桑杜沃;寇斯利;克巴特;罗泰勒
分类号 H01L29/02(2006.01) 主分类号 H01L29/02(2006.01)
代理机构 代理人 蔡中曾;黄庆源
主权项
地址 美国