发明名称 用于雷射生成式电浆超紫外线(EUV)光源之源材料收集单元
摘要 揭露一种超紫外光(EUV)光源,其能够包含一产生一雷射光束之雷射源以及一源材料,例如锡、四溴化锡、溴化锡、四氢化锡、锡-镓合金、锡-铟合金、锡-铟-镓合金或其组合,该源材料系藉由雷射光束加以照射,以形成一电浆,并发出EUV光线。该EUV光源亦能够包含一光束收集器,其布置成接受雷射光束、以及一个将光束收集器之温度控制在一预先选定范围内的系统。在一实施例中,该源材料能够在一照射区域进行照射,且该光源能够进一步包含一接收构造,其形成具有一表面,该表面之形状系用以接受从照射区域射出的源材料,并且导引该经过接受之源材料供后续收集之用。接收构造与光束收集器能够形成为一个单一整体单元。
申请公布号 TW200816879 申请公布日期 2008.04.01
申请号 TW096129406 申请日期 2007.08.09
申请人 希玛股份有限公司 发明人 拜卡诺夫;汉森 毕琼恩
分类号 H05G2/00(2006.01) 主分类号 H05G2/00(2006.01)
代理机构 代理人 恽轶群;陈文郎
主权项
地址 美国