发明名称 密封之单元结构
摘要 本发明揭示一种形成一密封之单元结构的方法。该密封之单元结构包含由复数个隔离壁(14)间隔开之第一基板(10)及第二基板(12)。该等隔离壁在该第一基板与该第二基板之间界定复数个单元(18、19)。该等基板及该等隔离壁中之至少一者在其上具有一光压印材料层(16、22、30)。将一潜影写入(112)至该光压印材料上,且接着显影该影像,藉此导致区域(114)中之光压印材料根据该潜影之图案而膨胀。该光压印材料之该膨胀导致密封该等单元使其彼此分离。
申请公布号 TW200815890 申请公布日期 2008.04.01
申请号 TW096130585 申请日期 2007.08.17
申请人 皇家飞利浦电子股份有限公司 发明人 马克 汤玛斯 强森;马汀纳斯 赫曼纽斯 威尔赫摩斯 玛莉亚 凡 戴尔登;VAN DELDEN, MARTINUS HERMANUS WILHELMUS MARIA;德克 珍 包尔
分类号 G02F1/167(2006.01) 主分类号 G02F1/167(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 荷兰