发明名称 基板保持装置
摘要 〔发明课题〕本发明提供一种能够有效防止涂膜产生不均匀的基板保持装置。〔解决手段〕基板保持装置,具有:形成复数吸附孔 1b 及吸附孔间连通的沟槽 1a,可吸附保持着基板 2 的工作台 1 ;于一端侧形成和上述工作台的吸附孔连通,于另一端侧形成和真空源连通的真空阀 5;于一端侧形成和上述工作台的吸附孔连通,于另一端侧形成和大气连通的大气阀 6;于一端侧形成和上述工作台的吸附孔连通,于另一端侧形成和吹扫气体源连通的吹扫气体阀 7;及真空阀、大气阀和吹扫气体阀的开闭控制用的阀控制装置 8。将基板吸附保持在工作台上时,利用真空吸附使基板保持在工作台上,然后将工作台的吸附孔转换成大气状态,于大气状态下执行各种处理。
申请公布号 TW200816358 申请公布日期 2008.04.01
申请号 TW096119595 申请日期 2007.05.31
申请人 东京应化工业股份有限公司 发明人 升芳明;宫本英典;吉泽健司
分类号 H01L21/683(2006.01) 主分类号 H01L21/683(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本