摘要 |
Composé ionique comprenant au moins un groupement A+X-, caractérisé en ce que : - A+ est un groupe cationique choisi dans le groupe constitué par les groupements biaryliodonium, les groupements arylsulfonium, les groupements arylacylsulfonium, les groupements diazonium et les cations organométalliques comprenant un métal de transition complexé par au moins un cycle insaturé comprenant de 4 à 12 atomes de carbone, ledit groupe cationique faisant éventuellement partie d'une chaîne polymère ; - X- est un anion imidure [FSO2NSO2R'F]- ou [RFCH2OSO2NSO2R'F]- ou [(RF)2CHOSO2NSO2R'F]-, ou un anion méthylure [FSO2C(Q)SO2R'F]- ou [RFCH2OSO2C(Q)SO2R'F]- ou [(RF)2CHOSO2C(Q)SO2R'F]- dans lesquels : 1) Q représente : - H-, Cl-, F-, Br- ou CN- ; - un radical alkyle ayant de 1 à 30 atomes de carbone ; - un radical aryle ou alkylaryle ou arylalkyle ayant de 6 à 30 atomes de carbone ; - un groupe R"F-, un groupe R"FSO2-, un groupe R"FCH2O-SO2- ou un groupe (R"F)2CHO-SO2- ; 2) RF et R'F, ainsi que R"F le cas échéant lorsque X- est un anion méthylure, sont choisis indépendamment l'un de l'autre dans le groupe constitué par le fluor, par les groupements perhaloalkyles ayant de 1 à 30 atomes de carbone, par les groupements (perhaloalkyl)alcoxy ayant de 2 à 30 atomes de carbone, par les groupements cycloaliphatiques perhalogénés ayant de 3 à 30 atomes de carbone contenant éventuellement des hétéroatomes choisis parmi O et N et/ou portant éventuellement au moins un chaînon perhaloalkyle, et par les groupements aryles perhalogénés ayant de 6 à 30 atomes de carbone; ou bien 3) R F et R'F forment ensemble un radical divalent choisi parmi les radicaux alkylènes linéaires perfluorés ayant de 2 à 8 atomes de carbone ; ou bien 4) lorsque X- est un anion méthylure, R'F et R"F d'une part, ou R F et R"F d'autre part forment ensemble un radical divalent choisi parmi les radicaux alkylènes linéaires perfluorés ayant de 2 à 8 atomes de carbone. Procédé de préparation et utilisation comme photoamorceur pour la polymèrisation ou la réticulation de monomères par voie cationique ou pour la modification de polymères notamment lorsqu'ils sont utilisés comme photorésists.
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申请人 |
VALLEE, ALAIN;OLLIVRIN, XAVIER;MICHOT, CHRISTOPHE;ARMAND, MICHEL |
发明人 |
VALLEE, ALAIN;OLLIVRIN, XAVIER;MICHOT, CHRISTOPHE;ARMAND, MICHEL |