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发明名称 Semiconductor device manufacturing method including cleaning surface layer
摘要
申请公布号 KR100818708(B1) 申请公布日期 2008.04.01
申请号 KR20060078351 申请日期 2006.08.18
申请人 发明人
分类号 H01L21/302 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
主权项
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