| 摘要 |
Die Erfindung betrifft ein Teilsystem einer Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, wobei die Beleuchtungseinrichtung zum Beleuchten einer Retikelebene der Projektionsbelichtungsanlage mit Licht einer gewünschten Polarisationsverteilung ausgelegt ist, und wobei das Teilsystem ein erstes polarisationsbeeinflussendes optisches Element (12, 30), welches eine von einer Lichtquelle erzeugte erste Polarisationsverteilung (101, 102) in eine zweite Polarisationsverteilung (201, 202) umwandelt, die von der ersten Polarisationsverteilung verschieden ist, und ein zweites polarisationsbeeinflussendes optisches Element (15, 25), welches die zweite Polarisationsverteilung in eine der gewünschten Polarisationsverteilung entsprechende dritte Polarisationsverteilung umwandelt, aufweist, wobei das zweite polarisationsbeeinflussende optische Element über seine gesamte optisch wirksame Fläche eine effektive Drehung der Polarisationsvorzugsrichtung um 90° bewirkt.
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