发明名称 |
一种电极基膜的制备方法及其应用 |
摘要 |
本发明公开了一种电极基膜的制备方法,包括制备导电基膜A膜步骤和制备导电基膜B膜步骤,还包括将导电基膜A膜和导电基膜B膜复合制备电极基膜的步骤,其中导电基膜A膜和导电基膜B膜经压碾机在加热到温度为100-400℃时和线压力为80-120T下压制成电极基膜。由于本发明使用无添加剂的干法制备方法,因此提高了活性碳和导电碳在电极中的微观和客观的分布均匀性和一致性,提高了电极薄膜的强度和降低了电极的内阻,增加表面积。 |
申请公布号 |
CN101150015A |
申请公布日期 |
2008.03.26 |
申请号 |
CN200710165639.5 |
申请日期 |
2007.10.25 |
申请人 |
宁波富达电器有限公司 |
发明人 |
田吉传;徐来根;杨晓明 |
分类号 |
H01G9/04(2006.01);H01G9/058(2006.01);H01G13/00(2006.01);H01M4/04(2006.01);H01M4/88(2006.01) |
主分类号 |
H01G9/04(2006.01) |
代理机构 |
北京市广友专利事务所有限责任公司 |
代理人 |
张德胜 |
主权项 |
1.一种电极基膜的制备方法,其特征在于包括制备导电基膜A膜步骤和制备导电基膜B膜步骤,还包括将导电基膜A膜和导电基膜B膜复合制备电极基膜的步骤,其中所述的将导电基膜A膜和导电基膜B膜复合制备电极基膜的步骤是将制备好的导电基膜A膜和导电基膜B膜经压碾机在加热到温度为100-400℃时和线压力为80-120T下压制成电极基膜。 |
地址 |
315400浙江省余姚市阳明西路355号 |