| 发明名称 | 气体注射装置 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种气体注射装置，用于向电感耦合等离子体装置的反应腔室供气，包括喷嘴，喷嘴上设有中部气体通道组和周边气体通道组，分别用于向反应腔室的中部区域和周边区域供气，每组气体通道分别设有单独的流量控制装置，用于控制该组气体通道的气体流量。喷嘴的上部还设有检测装置，用于检测反应腔室内气体的反应状态。结构简单、气体注射覆盖的面积大、气体分布均匀，且能够实现对反应腔室内气体反应的效果进行检测，尤其适用于半导体硅片加工设备的供气系统中，也适用于其它场合的供气。 | ||
| 申请公布号 | CN101150039A | 申请公布日期 | 2008.03.26 |
| 申请号 | CN200610113334.5 | 申请日期 | 2006.09.22 |
| 申请人 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 发明人 | 王志升 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01);H01L21/3065(2006.01);H01L21/205(2006.01);C23F4/00(2006.01);C23C16/455(2006.01);H01J37/32(2006.01);H05H1/00(2006.01) | 主分类号 | H01L21/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京凯特来知识产权代理有限公司 | 代理人 | 赵镇勇 |
| 主权项 | 1.一种气体注射装置，用于向反应腔室供气，包括喷嘴，其特征在于，所述的喷嘴上设有至少两组与反应腔室相通的气体通道，每组气体通道分别设有单独的流量控制装置，用于控制该组气体通道的气体流量。 | ||
| 地址 | 100016北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5座2楼 | ||