| 发明名称 | 树脂模及使用该树脂模的成型体的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明是在制造基板上有凹凸图案的成型体的光纳米压印法中，为了在该成型体表面转印凹凸图案而使用的树脂模，该树脂模由选自具有非极性脂环式结构的热塑性树脂及具有含卤素脂环式结构的热塑性树脂中的至少1种成型材料构成。本发明还提供在设置于基板上的被转印层上，使用上述树脂模，采用光纳米压印法转印凹凸图案的成型体的制造方法。上述树脂模用于制造在表面有纳米级的凹凸图案的成型体，且该树脂模与该成型体的脱模性良好。 | ||
| 申请公布号 | CN101151132A | 申请公布日期 | 2008.03.26 |
| 申请号 | CN200580049352.5 | 申请日期 | 2005.09.29 |
| 申请人 | 日本瑞翁株式会社 | 发明人 | 柏木干文 |
| 分类号 | B29C33/40(2006.01);B29C33/42(2006.01);H01L21/027(2006.01);B29C59/02(2006.01);B82B3/00(2006.01) | 主分类号 | B29C33/40(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 张平元;赵仁临 |
| 主权项 | 1.一种树脂模，其是在制造表面有凹凸图案的成型体的光纳米压印法时，在该成型体表面转印凹凸图案而使用的树脂模，其中，该树脂模包含选自具有非极性脂环式结构的热塑性树脂及具有含卤素脂环式结构的热塑性树脂中的至少1种成型材料。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||