发明名称 低翘曲度、弯曲度和TTV的75毫米碳化硅晶片
摘要 本发明公开一种高质量的SiC单晶片。该晶片具有至少约3英寸的直径、小于约5μm的翘曲度、小于约5μm的弯曲度、以及小于约2.0μm的TTV。
申请公布号 CN101151402A 申请公布日期 2008.03.26
申请号 CN200680010885.7 申请日期 2006.04.07
申请人 克里公司 发明人 艾德里安·鲍威尔;威廉·H.·布里克休斯;罗伯特·T.·里奥纳多;戴维斯·M.·麦克卢尔;迈克尔·P.·劳纳
分类号 C30B29/36(2006.01);B24B37/04(2006.01) 主分类号 C30B29/36(2006.01)
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 秦晨
主权项 1.一种高质量的SiC单晶片,该单晶片具有至少约75毫米(3英寸)的直径、小于约5μm的翘曲度、小于约5μm的弯曲度、以及小于约2.0μm的TTV。
地址 美国北卡罗莱纳
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