发明名称 图像传感器件及制造方法
摘要 一种本发明的CMOS图像传感器,具有在1.2-4.5V的偏压下完全耗尽的低压光电二极管。该光电二极管包括:P-epi层;将P-epi层分成场区和有源区的场氧化层;形成在P-epi层的N<SUP>-</SUP>区,其中第一杂质区与隔离层分隔开;以及形成在P-epi层下面和N<SUP>-</SUP>区上面的导电类型的P<SUP>0</SUP>区,其中P<SUP>0</SUP>区的宽度宽于N<SUP>-</SUP>区的宽度,从而使P<SUP>0</SUP>区的一部分形成在P-epi层上,由此使P<SUP>0</SUP>区具有与P-epi层相同的电位。
申请公布号 CN100377362C 申请公布日期 2008.03.26
申请号 CN200310104488.4 申请日期 1999.02.28
申请人 美格纳半导体有限会社 发明人 伍德沃德·杨;李柱日;李兰伊
分类号 H01L27/146(2006.01);H01L21/82(2006.01) 主分类号 H01L27/146(2006.01)
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 钱大勇
主权项 1.一种CMOS图像传感器件,包括:第一导电类型的半导体层;第一导电类型的阱区,局部定位在半导体层;形成在半导体层中的光电二极管,用于检测来自物体的光;形成在半导体层中的至少一个耗尽型晶体管,用于将光电二极管中产生的光电电荷转移到浮动结,该浮动结形成在半导体层的一部分上,并存储光电电荷;以及形成在阱区中的至少一个增强型晶体管,用于输出电信号,该电信号与从浮动结转移的光电电荷的量相对应。
地址 韩国忠清北道