发明名称 |
衬底处理装置 |
摘要 |
本发明提供一种衬底处理装置(10),该衬底处理装置对正在沿运送通路(171)以基本水平的状态运送的衬底(B)进行规定的处理,沿着运送通路(171)串联设置液体回收型喷嘴部(20)和气刀(30),该液体回收型喷嘴部(20)用作向运送中的衬底(B)供给规定的处理液的处理液供给器,按照可从衬底(B)回收已供给的处理液的方式构成,该气刀(30)用作去除被供给处理液后的衬底(B)上残留的处理液的处理液去除器,通过气流吹散衬底(B)上的残留处理液。并且可以实现衬底处理装置的紧密化。 |
申请公布号 |
CN100377297C |
申请公布日期 |
2008.03.26 |
申请号 |
CN200510080979.9 |
申请日期 |
2005.06.29 |
申请人 |
未来视野股份有限公司 |
发明人 |
山口和彦;村冈佑介 |
分类号 |
H01L21/00(2006.01);H01L21/304(2006.01);B08B3/02(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/00(2006.01) |
代理机构 |
隆天国际知识产权代理有限公司 |
代理人 |
高龙鑫;王玉双 |
主权项 |
1.一种衬底处理装置,对衬底实施所定的处理,该衬底处理装置具有运送衬底的运送通路,其特征在于包括:液体回收型喷嘴部,该液体回收型喷嘴部包括液体回收型喷嘴器件,该液体回收型喷嘴器件具有向沿着上述运送通路运送的衬底供给处理液的液体导入口和从衬底回收处理后的处理液的液体导出口;除液部,该除液部在上述运送通路中的上述液体回收型喷嘴部下游侧,从上述液体回收型喷嘴部开始,以规定距离间隔开设置,将衬底上的处理液去除。 |
地址 |
日本东京都 |