发明名称 有机电致发光元件及其制作方法
摘要 一种有机电致发光元件的制作方法,此制作方法包括下列之步骤:首先提供一基板,然后于基板上形成一第一电极层,之后于基板上形成一阻隔层,且阻隔层具有多个用以暴露出第一电极层的开口,再于开口内之阻隔层的侧壁以及第一电极层上形成一导电层,然后于开口内的导电层上形成一发光层,最后于发光层上形成一第二电极层。由于发光层是在同一物质介面(即导电层)上形成的,因此可以增加发光层厚度的均匀性,进而提升有机电致发光显示器的产品良率以及显示品质。
申请公布号 TWI295145 申请公布日期 2008.03.21
申请号 TW094127284 申请日期 2005.08.11
申请人 中华映管股份有限公司 发明人 刘佩瑜;李怀安;罗宇城;王君铭
分类号 H05B33/10(2006.01) 主分类号 H05B33/10(2006.01)
代理机构 代理人 詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;萧锡清 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1
主权项 1.一种有机电致发光元件的制作方法,包括: 提供一基板; 于该基板上形成一第一电极层; 于该基板上形成一阻隔层,且该阻隔层具有多数个 开口,用以暴露出该第一电极层; 于该些开口内之该阻隔层的侧壁以及该第一电极 层上形成一导电层; 于该些开口内的该导电层上形成一发光层;以及 于该些发光层上形成一第二电极层。 2.如申请专利范围第1项所述之有机电致发光元件 的制作方法,其中形成该第一电极层的步骤包括: 于该基板上形成一电极材料层;以及 图案化该电极材料层,以形成该第一电极层。 3.如申请专利范围第2项所述之有机电致发光元件 的制作方法,其中图案化该电极材料层的方法包括 进行微影与蚀刻制程。 4.如申请专利范围第1项所述之有机电致发光元件 的制作方法,其中形成该阻隔层的步骤包括: 于该基板上形成一阻隔材料层;以及 图案化该阻隔材料层,以形成该阻隔层。 5.如申请专利范围第4项所述之有机电致发光元件 的制作方法,其中该阻隔层的材质包括感光材料, 而图案化该阻隔材料层的方法包括对该阻隔材料 层进行曝光与显影。 6.如申请专利范围第1项所述之有机电致发光元件 的制作方法,其中形成该导电层的步骤包括: 于该基板上形成一导电材料层;以及 图案化该导电材料层,以形成该导电层。 7.如申请专利范围第6项所述之有机电致发光元件 的制作方法,其中图案化该电极材料层的方法包括 进行微影与蚀刻制程。 8.如申请专利范围第1项所述之有机电致发光元件 的制作方法,其中形成该发光层的方法包括喷墨法 。 9.一种有机电致发光元件,包括: 一基板; 一第一电极层,配置于该基板上; 一阻隔层,配置于该基板上,且该阻隔层具有多数 个开口,用以暴露出该第一电极层; 一导电层,配置于该些开口内之该图案化阻隔层的 侧壁以及该第一电极层上; 一发光层,配置于该些开口内的该导电层上;以及 一第二电极层,配置于该发光层上。 10.如申请专利范围第9项所述之有机电致发光元件 ,其中该基板为透明基板。 11.如申请专利范围第10项所述之有机电致发光元 件,其中该基板之材质包括玻璃。 12.如申请专利范围第9项所述之有机电致发光元件 ,其中该基板为主动元件阵列基板。 13.如申请专利范围第12项所述之有机电致发光元 件,其中该基板为薄膜电晶体阵列基板。 14.如申请专利范围第9项所述之有机电致发光元件 ,其中该第一电极层的材质包括透明导电材料。 15.如申请专利范围第14项所述之有机电致发光元 件,其中该第一电极层的材质包括铟锡氧化物或铟 锌氧化物。 16.如申请专利范围第9项所述之有机电致发光元件 ,其中该导电层的材质包括透明导电材料。 17.如申请专利范围第16项所述之有机电致发光元 件,其中该导电层的材质包括铟锡氧化物或铟锌氧 化物。 18.如申请专利范围第9项所述之有机电致发光元件 ,其中该发光层的材质包括高分子有机发光材料。 图式简单说明: 图1绘示为习知一种有机电致发光元件的剖面图。 图2A~2B绘示为习知另一种有机电致发光元件的剖 面图。 图3A~3I绘示为本发明一较佳实施例之有机电致发 光元件的制作流程图。
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