发明名称 化学增幅正型感光性树脂组成物
摘要 一种对应于厚膜和超厚膜的化学增幅正型感光性树脂组成物,其适用于形成厚膜光阻图案,如磁头之磁极或凸块的形成等。本发明之正型感光性树脂组成物,包含(A)硷可溶性酚醛清漆树脂、(B)硷可溶性丙烯酸系树脂、(C)缩醛化合物、及(D)酸发生剂。该缩醛化合物具有以下述通式(I)所示构成单位(其中,R表示碳数1~20之饱和烷基,n表示1~10之整数)作为重复单位之聚缩合物较佳。
申请公布号 TWI294903 申请公布日期 2008.03.21
申请号 TW092129081 申请日期 2003.10.21
申请人 AZ电子材料股份有限公司 发明人 西良典;牧井利道
分类号 C09D5/00(2006.01);G03F7/039(2006.01) 主分类号 C09D5/00(2006.01)
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼;何秋远 台北市大安区敦化南路2段77号8楼
主权项 1.一种化学增幅正型感光性树脂组成物,其包含(A) 硷可溶性酚醛清漆树脂、(B)硷可溶性丙烯酸系树 脂、(C)缩醛化合物及(D)酸发生剂,且成分(A):(B):(C): (D)之重量比为100:2-200:5-50:0.05-10。 2.如申请专利范围第1项之化学增幅正型感光性树 脂组成物,其中丙烯酸系树脂含有(甲基)丙烯酸由 来的构成单位与甲基丙烯酸烷酯由来之构成单位 。 3.如申请专利范围第2项之化学增幅正型感光性树 脂组成物,其中该丙烯酸系树脂更含有苯乙烯由来 的构成单位。 4.如申请专利范围第1项之化学增幅正型感光性树 脂组成物,其中丙烯酸系树脂含有甲基丙烯酸羟基 烷酯由来的构成单位与甲基丙烯酸烷酯由来的构 成单位。 5.如申请专利范围第4项之化学增幅正型感光性树 脂组成物,其中该丙烯酸系树脂更含有苯乙烯由来 的构成单位。 6.如申请专利范围第1项之化学增幅正型感光性树 脂组成物,其中缩醛化合物为具有通式(I)所示构成 单位, (其中,R表示碳数1-20之饱和烷基,n表示1-10之整数) 。 7.如申请专利范围第1项之化学增幅正型感光性树 脂组成物,其系使用于制作膜厚为5m以上之膜。 8.如申请专利范围第1至7项中任一项之化学增幅正 型感光性树脂组成物,其系使用于半导体封装技术 之金凸块制造工程中氰或非氰电解镀金工程。 9.如申请专利范围第1至7项中任一项之化学增幅正 型感光性树脂组成物,其使用于铜、镍或焊料电镀 工程。 10.如申请专利范围第1至7项中任一项之化学增幅 正型感光性树脂组成物,其使用于连续进行的如申 请专利范围第8项中之电镀工程及如申请专利范围 第9项中之电镀工程。
地址 日本