| 主权项 |
1.一种光源装置,其特征为具备: 发光部,用以供给光;和 相位板,用以转换来自上述发光部之光的偏光状态 ;和 反射型偏光板,使来自上述相位板之光中之特定振 动方向的偏光光线透过,且将与上述特定振动方向 不同之其他振动方向的偏光光线加以反射;和 反射部,其设置于上述发光部的周边,而将藉由上 述反射型偏光板反射且透过上述相位板的光加以 反射, 而上述反射部同时系接近上述相位板而设置,用以 将藉由上述反射型偏光板反射且透过上述相位板 的光导入上述相位板。 2.如申请专利范围第1项之光源装置,其中,上述发 光部和上述相位板之间,具有由光学式透明构件所 形成的构造体。 3.如申请专利范围第2项之光源装置,其中,上述构 造体系将来自上述发光部之光的光量分布大致均 匀化的杆状结合器(rod integrator)。 4.如申请专利范围第1项之光源装置,其中,上述发 光部和上述相位板和上述反射型偏光板系依序积 层而设置,并且上述反射型偏光板在与上述相位板 侧相反之面,具有用以将透过上述反射型偏光板的 光加以射出的光学元件。 5.一种投影机,其特征为具备: 光源装置,其包括发光部,用以供给光;相位板,用以 转换来自上述发光部之光的偏光状态;反射型偏光 板,用以透过来自上述相位板之光中之特定振动方 向的偏光光线,且将与上述特定振动方向不同之其 他振动方向的偏光光线加以反射;反射部,其设置 于上述发光部的周边,用以将藉由上述反射型偏光 板反射且透过相位板的光加以反射;和 空间光调变装置,其依据画像信号,将来自上述光 源装置的光加以调变;和 投射镜,用以投射上述空间光调变装置所调变的光 , 而上述反射部同时系接近上述相位板而设置,用以 将藉由上述反射型偏光板反射且透过上述相位板 的光导入上述相位板。 6.一种光源装置,其特征为具备: 发光部,其具有基板且经由上述基板供给光;和光 传递部,其由透明沟件所构成,且藉由设置于来自 上述发光部之上述基板之渐消(evanescent)光到达的 位置,来传递上述渐消光。 7.如申请专利范围第6项之光源装置,上述光传递部 在上述发光部侧的入射面,具有复数微细突起构造 。 8.如申请专利范围第6或7项之光源装置,上述光传 递部在与上述发光部侧相反的射出面,具有用以将 透过上述光传递部之光加以射出的光学元件。 9.如申请专利范围第6项之光源装置,其中,上述光 传递部系将来自上述发光部之光的光量分布大致 均匀化的杆状结合器, 而杆状结合器在上述发光部侧的入射面具有复数 微细突起构造,在与上述发光部侧相反的射出面, 具有用以将传递于上述杆状结合器之光加以射出 的光学元件。 10.一种投影机,其特征为具备: 光源装置,包括发光部和光传递部,而该发光部具 有基板且经由上述基板供给光部,而该光传递部系 由透明构件所构成,且藉由设置于来自上述发光部 之上述基板之渐消光到达的位置,来传递上述渐消 光;和 空间光调变装置,其依据画像信号,将来自上述光 源装置的光加以调变;和 投射镜,用以投射由上述空间光调变装置所调变的 光。 图式简单说明: 第1图是本发明实施例1之投影机的概略构成图。 第2图是光源装置的剖面构成图。 第3图是本发明实施例2之光源装置的剖面构成图 。 第4图是本发明实施例3之光源装置的剖面构成图 。 第5图是本发明实施例4之光源装置的剖面构成图 。 第6图是光学元件的说明图。 第7图是光学元件的说明图。 第8图是光学元件的说明图。 第9图是光学元件的说明图。 第10图是本发明实施例5之投影机的概略构成图。 第11图是光源装置的剖面构成图。 第12图是本发明实施例6之光源装置的剖面构成图 。 第13图是本发明实施例7之光源装置的剖面构成图 。 |
