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Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Kompensation von durch Intensitätsverteilungen in optischen Systemen, insbesondere Projektionsobjektiven (3) bei Mikrolithographiesystemen, erzeugtlgender Reihenfolge: - Berechnung der orts- und/oder zeitabhängigen Intensitätsverteilungen in mindestens einem optischen Element des optischen Systems, - Berechnung der orts- und/oder zeitabhängig absorbierten Energie in zumindest dem optischen Element, für welches die Intensitätsverteilung bestimmt worden ist, - Berechnung der durch die eingebrachte Energie verursachten Deformationen und/oder Änderung der optischen Eigenschaften des optischen Elements und - Auswahl einer oder mehrerer Kompensationsmaßnahmen in Abhängigkeit der Ergebnisse der vorangegangenen Schritte, sowie ein optisches System zur Abbildung eines Objekts, insbesondere Projektiosobjektiv für die Mikrolithographie, vorzugsweise zur Anwendung des beschriebenen Verfahrens, mit mindestens einem, vorzugsweise mehreren optischen Elementen (4, 5), wobei mindestens ein im Strahlengang anbringbarer Bilddetektor (6, 7) zur Intensitätsmessung vorgesehen ist, der unmittelbar die orts- und/oder zeitaufgelöste Intensitätsverteilung im Strahlengang des optischen Systems misst.
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