发明名称 具有同轴和离轴方位的微机械设备结构
摘要 一种微机械多传感器,其提供1个加速度感测轴和2个角速度感测轴。制造所述微机械多传感器的方法包括:在衬底的表面上淀积牺牲材料层或结构材料层。随后利用预定掩膜图案来掩蔽牺牲材料层或结构材料层。使用具有多水平和垂直间距的直线栅格来形成所述预定掩膜图案。所述掩膜图案定义所述传感器设备的功能元件。在所述微机械多传感器具有至少一个其对准和/或宽度是所述传感器设备的性能的关键的第一功能元件的情况下,定义所述关键元件,使得其纵轴基本上平行于所述掩膜的水平轴或垂直轴。在所述微机械多传感器具有至少一个其对准和/或宽度不是所述传感器设备的性能的关键的第二功能元件的情况下,定义所述非关键元件,使得其纵轴不平行于所述掩膜的水平轴或垂直轴。
申请公布号 CN100375234C 申请公布日期 2008.03.12
申请号 CN200480018404.8 申请日期 2004.04.27
申请人 模拟器件公司 发明人 约翰·A·吉恩
分类号 H01L21/00(2006.01) 主分类号 H01L21/00(2006.01)
代理机构 永新专利商标代理有限公司 代理人 王英
主权项 1.一种用于在衬底上制造微机械设备的方法,所述微机械设备包括在所述衬底上具有关键物理尺寸或关键对准的至少一个第一元件,以及至少一个非关键第二元件,所述方法包括以下步骤:在所述衬底的表面上淀积至少一个层;使用预定掩膜图案来掩蔽所述淀积层,所述掩膜图案具有与之相关联的相互正交的第一和第二轴,所述掩膜图案用于在所述淀积层上定义与所述设备的第一和第二元件对应的各个区域,与至少一个第一元件对应的所述各个区域具有相关关键轴,该相关关键轴基本上平行于与所述掩膜图案相关联的所述第一或第二轴,以及与至少一个第二元件对应的所述各个区域具有相关非关键轴,该相关非关键轴偏离与所述掩膜图案相关联的所述第一或第二轴,其中所述掩膜图案与直线栅格相关联,所述直线栅格由多条水平线和多条垂直线组成,并且其中与所述掩膜图案相关联的所述第一轴基本上平行于形成所述直线栅格的所述多条水平线,以及与所述掩膜图案相关联的所述第二轴基本上平行于形成所述直线栅格的所述多条垂直线;并且蚀刻所述经过掩蔽后的淀积层,以将所述掩膜图案传递到所述淀积层。
地址 美国马萨诸塞州