| 发明名称 | 用于制造带阻滤波器的方法和装置 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种用于制造带阻滤波器的方法和装置。在一种方案中，该方法使用全息光刻以生产较小尺寸的带阻滤波器而不需要掩模。 | ||
| 申请公布号 | CN101140419A | 申请公布日期 | 2008.03.12 |
| 申请号 | CN200710142600.1 | 申请日期 | 2007.09.04 |
| 申请人 | 东部高科股份有限公司 | 发明人 | 金尚俊 |
| 分类号 | G03F7/00(2006.01);G03F7/20(2006.01);H01P1/20(2006.01);H01L21/027(2006.01) | 主分类号 | G03F7/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人 | 徐金国;梁挥 |
| 主权项 | 1.一种用于制造带阻滤波器的方法，包括：在金属或介电物质上涂覆光敏材料；使用全息光刻对涂覆有所述光敏材料的所述金属或介电物质沿预定的倾斜方向执行第一光刻工艺，以形成多条第一倾斜线；将所述金属或介电物质旋转约180度，并且使用所述全息光刻对所旋转的金属或介电物质沿预定的倾斜方向执行第二光刻工艺，以形成多条第二倾斜线；对所述金属或介电物质执行第三光刻工艺，以在所述金属或介电物质上形成所需图案；以及通过蚀刻工艺或金属蚀刻工艺形成包括无源元件的所述带阻滤波器。 | ||
| 地址 | 韩国首尔 | ||