形成厚膜用正型光致抗蚀剂组合物

摘要

本发明是提供一种，除了其他优点以外，对在基板上形成比较厚的光致抗蚀剂膜用为合适的化学放大型正型光致抗蚀剂组合物。本案组合物含有，(A)光酸产生剂，(B)因酸的作用对碱溶液的溶解性增大的碱不溶性树脂，(C)碱可溶性树脂及(D)有机溶剂，其中组分(C)是(C₁)聚羟基苯乙烯或至少含有80质量％的羟基苯乙烯单元的共聚物，其量相对于(B)成分与(C)成分合计量100质量份，不超过15质量份的量。

主权项

1.一种用于在支持体表面形成光致抗蚀剂层的化学放大型正型光致抗蚀剂组合物，其含有：(A)光酸产生剂，(B)可通过酸的作用使其碱溶解性增大的碱不溶性树脂，(C)碱可溶性树脂及(D)有机溶剂，其中(C)成分包含，含有至少80质量％的羟基苯乙烯单元的共聚物或聚羟基苯乙烯(C1)，条件是相对于(B)成分与(C)成分的合计质量100质量份，(C1)成分的含量不超过15质量份。