发明名称 |
静电吸盘和处理装置 |
摘要 |
根据本发明,提供一种用于静电吸引绝缘基片的静电吸盘、使用静电吸盘加热/冷却绝缘基片的装置、和控制绝缘基片温度的方法。公开了形成静电吸盘的绝缘材料的形状和特性、和电极的形状。还公开了包括板、气体输送管道和温度控制系统的用于加热/冷却绝缘基片的装置、和其中安装了用于加热/冷却绝缘基片的装置的用于处理绝缘基片的装置。 |
申请公布号 |
CN100375263C |
申请公布日期 |
2008.03.12 |
申请号 |
CN200410085563.1 |
申请日期 |
2000.05.25 |
申请人 |
TOTO株式会社;株式会社爱发科 |
发明人 |
北林彻夫;堀裕明;内村健志;建野范昭;不破耕;前平谦 |
分类号 |
H01L21/68(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/68(2006.01) |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
王忠忠 |
主权项 |
1.一种用于吸引绝缘基片的静电吸盘,其包括:介电质基片,其一个面作为吸引绝缘基片的吸引面,其另一个面上多个电极以相互邻接的方式相互纠缠设置,上述静电吸盘的特征在于:通过将上述多个电极的邻接电极之间的距离和上述介电质基片的厚度及电极宽度设定成当向电极之间提供电位差时根据不均匀电场使上述绝缘基片以梯度力被吸引,即上述多个电极之间的距离为0.5mm以上2mm以下,上述介电质基片的厚度为大于0.3mm、小于等于2mm,并且上述多个电极的宽度为0.5mm以上4mm以下,可吸引绝缘基片,其中该绝缘基片的上表面和对着静电吸盘的该绝缘基片的承载面侧呈现出电绝缘性。 |
地址 |
日本福冈县 |