| 发明名称 | 具有特定孔径分布的沉淀硅石 | ||
| 摘要 | 本发明涉及沉淀硅石，所述沉淀硅石具有特别宽的孔径分布的孔隙，其孔径小于孔体积分布函数的导数的最大值的孔径。本发明还涉及所述沉淀硅石的生产方法和用途。 | ||
| 申请公布号 | CN101139096A | 申请公布日期 | 2008.03.12 |
| 申请号 | CN200610151392.7 | 申请日期 | 2006.09.08 |
| 申请人 | 德古萨公司 | 发明人 | O·施滕策尔;A·布卢姆;H·－D·卢金斯兰德;R·施莫尔;H·托马;S·乌尔兰德特;A·韦迈尔 |
| 分类号 | C01B33/12(2006.01);C08L21/00(2006.01);C08K3/36(2006.01) | 主分类号 | C01B33/12(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 刘维升;林森 |
| 主权项 | 1.沉淀硅石，其特征在于以下物理化学参数：孔径分布的相对宽度γ 4.0-10.0(gnm)/ml，Sears值V2 28-40ml/(5g)，Sears值V2/CTAB比率 0.18-0.28ml/(5m2)，CTAB 100-200m2/g。 | ||
| 地址 | 德国杜塞尔多夫 | ||