发明名称 液晶显示板的制造方法及液晶显示板
摘要 本发明的目的在于提供一种可简化制造工序,还可实现液晶显示装置的成本降低的制造方法和液晶显示板。除了对液晶显示板的栅配线和栅电极GT、包含数据配线的源电极SD1、漏电极SD2的某个工序、或几个工序导入喷墨直描过程之外,对由硅半导体层SI和n<SUP>+</SUP>硅层NS的层叠构成的有源层岛的形成使用喷墨直描过程。
申请公布号 CN101140398A 申请公布日期 2008.03.12
申请号 CN200710141673.9 申请日期 2007.08.17
申请人 株式会社未来视野 发明人 好本芳和
分类号 G02F1/1362(2006.01);H01L27/12(2006.01);H01L21/00(2006.01);G03F7/00(2006.01) 主分类号 G02F1/1362(2006.01)
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 吴丽丽
主权项 1.一种液晶显示板的制造方法,所述液晶显示板具有:第1基板,针对矩阵排列的多个像素的每一个形成薄膜晶体管;和形成彩色滤光片的第2基板,在上述第1基板和上述第2基板粘合的间隙中封入液晶,所述液晶显示板的制造方法的特征在于:在上述第1基板上成膜形成半导体层,在该半导体层的上层成膜形成接触层从而形成有源层,在上述有源层之上,利用喷墨直描,涂布成为上述薄膜晶体管的源电极和漏电极的第1导电墨水,形成包含该薄膜晶体管的沟道部且连续的第1导电膜,在上述第1导电膜之上,利用喷墨直描,涂布第2导电墨水而成为覆盖层,与该第1导电膜一起形成层叠膜,对上述层叠膜进行构图,成为上述源电极和上述漏电极的部分形成连续的源电极和漏电极部,将上述源电极和漏电极部作为刻蚀掩模进行上述有源层的构图而形成有源层岛。
地址 日本东京都