发明名称 等离子体处理装置和等离子体处理方法
摘要 提供一种等离子体处理装置及方法,在利用感应耦合等离子体的同时,难以在等离子体点火之后产生斜向电场引起的缺陷。另外,提供一种等离子体处理装置及方法,在感应耦合等离子体方式中并用法拉第屏蔽件来去除斜向电场,同时,可确实点火等离子体。该装置构成为具备:容室(31);设置在该容室上方的钟罩(32);设置在所述钟罩(32)外侧的线圈(42);设置在所述钟罩(32)与所述线圈(42)之间的法拉第屏蔽件(44);隔板(33);设置在所述钟罩(32)上方的导电性部件(49);在所述线圈(42)中形成感应电磁场的第1高频电源(43);和在所述隔板(33)与所述导电性部件(49)之间形成电场的第2高频电源(34)。
申请公布号 CN100375244C 申请公布日期 2008.03.12
申请号 CN02804685.4 申请日期 2002.02.08
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 池田太郎
分类号 H01L21/3065(2006.01) 主分类号 H01L21/3065(2006.01)
代理机构 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人 龙淳
主权项 1.一种等离子体处理装置,其特征在于:具备:由容纳被处理基板的容纳部和与该容纳部连通、设置于该容纳部的上方且具有绝缘体壁的等离子体形成部构成的、对被处理基板实施等离子体处理的处理容器;设置在所述容纳部的、装载被处理基板的导电性载置台;设置在所述绝缘体壁外侧的、在所述等离子体形成部中形成感应电磁场的天线装置;向所述天线装置以第一高频提供电力的第1高频电源;提供利用通过所述天线装置形成的感应电磁场而电离变为等离子体的等离子体生成气体和进行等离子体处理用的处理气体的气体供给装置;按照在与被处理基板之间生成垂直的电场且与所述载置台对向的方式设置在所述绝缘体壁外侧的且接地的导电性部件;和向所述载置台以第二高频提供电力的第2高频电源。
地址 日本东京都