| 发明名称 | 处理废弃光刻胶的装置 | ||
| 摘要 | 本实用新型涉及一种处理废弃PR胶的装置，包括排液空腔、排液斜坡、接入口、真空口、排液口以及设置在所述排液空腔内的挡片，所述的挡片为一个以上。本实用新型使得气体状溶解液在接入口与真空口之间不能形成气流，有效的防止气体状溶解液进入真空管道，解决了真空管道易堵塞的问题。 | ||
| 申请公布号 | CN201035319Y | 申请公布日期 | 2008.03.12 |
| 申请号 | CN200720149142.X | 申请日期 | 2007.05.15 |
| 申请人 | 北京京东方光电科技有限公司 | 发明人 | 朴成哲;黄福林 |
| 分类号 | G03F7/16(2006.01);B05C11/10(2006.01) | 主分类号 | G03F7/16(2006.01) |
| 代理机构 | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 | 代理人 | 刘芳 |
| 主权项 | 1.一种处理废弃光刻胶的装置，包括排液空腔、排液斜坡、接入口、真空口、排液口以及设置在所述排液空腔内的挡片，其特征在于，所述的挡片为一个以上。 | ||
| 地址 | 100176北京市经济技术开发区西环中路8号 | ||