| 发明名称 | 多晶硅薄膜的制造方法和用多晶硅薄膜制造的显示器件 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种多晶硅薄膜的制造方法，该方法通过使用具有激光透射区和非透射区混合结构的掩模而能够利用激光得到均匀结晶的多晶硅薄膜，其中激光透射区基于激光扫描方向轴线不对称，激光透射区基于某一中心轴线对称，将激光透射区在平行于该中心轴线的另一轴线的方向上移动一定距离，从而使激光透射区和非激光透射区交替地设置。 | ||
| 申请公布号 | CN100375233C | 申请公布日期 | 2008.03.12 |
| 申请号 | CN200410100598.8 | 申请日期 | 2004.10.14 |
| 申请人 | 三星SDI株式会社 | 发明人 | 朴志容;朴惠香 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01);H01L21/324(2006.01);H01L21/20(2006.01);B23K26/00(2006.01);C30B28/00(2006.01) | 主分类号 | H01L21/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 陶凤波;侯宇 |
| 主权项 | 1.一种使用激光用非晶硅制造多晶硅薄膜的方法，包括：设置具有多个激光透射图案组和多个激光非透射图案组的掩模，每个所述激光透射图案组具有多个激光透射区，每个所述激光非透射图案组具有多个激光非透射区；以及沿激光扫描方向轴线平移掩模一距离，其中，每个所述激光透射图案组的所述多个激光透射区相对于该激光扫描方向轴线不对称地布置并且相对于预定中心轴线对称布置，该预定中心轴线与该激光扫描方向轴线彼此垂直；所述激光透射图案组和激光非透射图案组交替设置；以及平移掩模前的部分透射区和平移掩模后的部分透射区在垂直于该激光扫描方向轴线的方向上重叠。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||