发明名称 研磨液组合物
摘要 本发明提供一种能够抑制端面下垂的研磨液组合物。其含有共聚物以及研磨材料,所述共聚物具有下述式(Ⅰ)表示的结构单元和下述式(Ⅱ)-(Ⅳ)表示的一种以上的结构单元。作为用于形成下述式(Ⅰ)表示的结构单元的单体,可列举出甲基丙烯酸甲氧基聚乙二醇酯等,作为用于形成下述式(Ⅱ)表示的结构单元的单体,可列举出甲基丙烯酸硬脂酸酯等,作为用于形成下述式(Ⅲ)表示的结构单元的单体,可列举出甲基丙烯酸聚丙二醇酯等,作为用于形成下述式(Ⅳ)表示的结构单元的单体,可列举出苯乙烯等。
申请公布号 CN101139446A 申请公布日期 2008.03.12
申请号 CN200710149086.4 申请日期 2007.09.07
申请人 花王株式会社 发明人 铃木真彦;本间祐一;山胁有希子
分类号 C08J5/14(2006.01);C08L33/08(2006.01) 主分类号 C08J5/14(2006.01)
代理机构 永新专利商标代理有限公司 代理人 陈建全
主权项 1.一种研磨液组合物,其含有共聚物以及研磨材料,所述共聚物具有下述式(I)表示的结构单元、和选自下述式(II)-(IV)表示的结构单元中的至少一种结构单元,<img file="A2007101490860002C1.GIF" wi="1351" he="1370" />所述式(I)中,R<sup>1</sup>是氢原子或者甲基,R<sup>2</sup>是碳原子数为1-4的烷基,AO是碳原子数为1-8的氧化烯基,p是0或1,n是AO的总平均加成摩尔数,且是6-300的数,(AO)<sub>n</sub>中的氧化乙烯基所占的比例是80摩尔%以上,所述式(II)中,R<sup>3</sup>是氢原子或者甲基,X是氧原子或者NH基,R<sup>4</sup>是碳原子数为4-30的烷基或者碳原子数为6-30的芳基,所述式(III)中,R<sup>5</sup>是氢原子或者甲基,R<sup>6</sup>是氢原子或者碳原子数为1-3的烷基,AO是碳原子数为2-4的氧化烯基,m是AO的总平均加成摩尔数且是3-150的数,(AO)<sub>m</sub>中的氧化丙烯基和氧化丁烯基所占的比例是80摩尔%以上,所述式(IV)中,R<sup>7</sup>是氢原子或者甲基,R<sup>8</sup>是氢原子或者碳原子数为1-30的烷基。
地址 日本东京