| 主权项 |
1.一种涂布、显像装置,属于具备:被连接于设有在 基板表面涂布光阻剂的涂布单元及于被曝光后的 基板供给显像液而执行显像的显像单元的处理块 体,及在基板表面形成液层而执行液浸曝光的曝光 装置的介面部的涂布、显像装置,其特征为: 上述介面部是具备有: 对于液浸曝光后的基板执行洗净的基板洗净单元; 具备将来自曝光装置的基板搬运至基板洗净单元 的保持体的第一搬运机构;以及 从上述基板洗净单元搬出基板后搬运至处理块体 的第二搬运机构。 2.如申请专利范围第1项所述的涂布、显像装置,其 中,上述第二搬运机构是将来自处理块体的基板交 接至第一搬运机构,而第一搬运机构是将该基板交 接给曝光装置。 3.如申请专利范围第1项或第2项所述的涂布、显像 装置,其中,上述第一搬运机构是具备:将来自曝光 装置的基板搬运至基板洗净单元所用的专用保持 体,及将基板搬运至曝光装置所用的专用保持体。 4.如申请专利范围第1项或第2项所述的涂布、显像 装置,其中,上述第二搬运机构是由从基板洗净单 元取出基板的搬运臂,及从该搬运臂接受基板并交 接给处理块体的搬运臂所构成。 5.如申请专利范围第1项或第2项所述的涂布、显像 装置,其中,将上述第一搬运机构的基板搬运至基 板洗净单元的保持体加以洗净所用的保持体洗净 单元设在上述介面部。 6.如申请专利范围第5项所述的涂布、显像装置,其 中,上述保持体洗净单元组合设于上述基板洗净单 元。 7.如申请专利范围第6项所述的涂布、显像装置,其 中,在相对于对基板洗净单元内的搬运臂的进入路 的位置设有保持体洗净单元。 8.如申请专利范围第1项或第2项所述的涂布、显像 装置,其中,为了抑制被液浸曝光的基板的乾燥,具 备将被搬运至基板洗净单元的基板的周围环境加 以加湿的湿度控制单元。 9.如申请专利范围第8项所述的涂布、显像装置,其 中,上述湿度控制单元组合设于第一搬运机构。 10.一种涂布、显像方法,属于在处理块体将光阻剂 涂布于基板表面之后,于该基板表面形成液层施以 液浸曝光,然后将该基板搬运至上述处理块体并将 显像液供给于基板表面施以显像的涂布、显像方 法,其特征为:包含: 将经液浸曝光之后的基板藉由第一搬运机构搬运 至基板洗净单元的工程; 在基板洗净单元中执行基板洗净的工程;以及 从基板洗净单元将被洗净的基板藉由第二搬运机 构搬出至处理块体的工程。 11.如申请专利范围第10项所述的涂布、显像方法, 其中,搬运至上述基板洗净单元的工程,是包含藉 由具备于第一搬运机构的一专用的保持体所执行, 又藉由具备于第一搬运机构的另一专用的保持体 将来自曝光装置的基板搬运至基板洗净单元的工 程。 12.如申请专利范围第10项或第11项所述的涂布、显 像方法,其中,包含将上述第一搬运机构的基板搬 运至基板洗净单元的保持体藉由保持体洗净单元 执行洗净的工程。 13.如申请专利范围第12项所述的涂布、显像方法, 其中,在相对于对基板洗净单元内的搬运臂的进入 路的位置设有保持体洗净单元。 14.如申请专利范围第10项或第11项所述的涂布、显 像方法,其中,包含基板从曝光装置被搬入到介面 部之后,被搬入到基板洗净单元为止之期间,将该 基板的周围环境加以加湿的工程。 15.如申请专利范围第14项所述的涂布、显像方法, 其中,将基板的周围环境加以加湿的工程,是例如 藉由设于第一搬运机构的湿度控制单元所执行。 图式简单说明: 第1图是表示本发明的实施形态的涂布、显像装置 的俯视图。 第2图是表示本发明的实施形态的涂布、显像装置 的整体立体图。 第3图是表示上述涂布、显像装置的介面部的一例 的立体图。 第4图是表示设于上述介面部的搬运机构的一例的 立体图。 第5图是表示设于上述介面部的洗净单元的纵断侧 视图。 第6图是表示上述洗净单元的横断俯视图。 第7图是表示上述介面部的晶圆W的搬运路径的模 式图。 第8图是表示本发明的其他实施形态的介面部的构 成的一例的立体图。 第9(a)图及第9(b)图是表示搬运机构及湿度控制单 元的其他例的说明图。 |
