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发明名称
高分子化合物、正型光阻组成物及光阻图型之形成方法
摘要
本发明为提供一种正型光阻组成物,其为含有具下述式(1)或式(1)’所示结构单位所成群中所选出之1种以上单位(a1)、由含有具内酯之环式基的(α-低级烷基)丙烯酸酯所衍生之单位(a2)及,单位(a1)与单位(a2)以外之由含有具脂肪族环式基之非酸解离性溶解抑制基,且不含极性基之(α-低级烷基)丙烯酸酯所衍生之单位(a3)的高分子化合物,〔式中,R为氢原子、氟原子或碳数20以下之低级烷基或碳数20以下之氟化低级烷基,R1为可具有取代基之20员环以下之环式基,n为0或1至5之整数,m为0或1〕。
申请公布号
TWI294430
申请公布日期
2008.03.11
申请号
TW094119865
申请日期
2005.06.15
申请人
东京应化工业股份有限公司
发明人
木下洋平;岩井武
分类号
C08F20/28(2006.01);G03F7/039(2006.01);H01L21/027(2006.01)
主分类号
C08F20/28(2006.01)
代理机构
代理人
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
1.一种高分子化合物,其特征为含有下述式(1)或式( 1)'所示结构单位所成群中所选出之1种以上结构单 位(a1), 含有具内酯之单环或多环式基的(-低级烷基)丙 烯酸酯所衍生之结构单位(a2)及, 前述结构单位(a1)与结构单位(a2)以外的结构单位 之由含有具脂肪族环式基之非酸解离性溶解抑制 基,且不含极性基之(-低级烷基)丙烯酸酯所衍生 之结构单位(a3)的高分子化合物
地址
日本
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