Chemical Mechanical Polishing Process of Semiconductor Device,申请号KR20010082544-传众专利搜索

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发明名称	Chemical Mechanical Polishing Process of Semiconductor Device
摘要
申请公布号	KR100811411(B1)	申请公布日期	2008.03.07
申请号	KR20010082544	申请日期	2001.12.21
申请人		发明人
分类号	H01L21/304	主分类号	H01L21/304
代理机构		代理人
主权项
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