发明名称 Semiconductor device and method for manufacturing the same
摘要 A semiconductor device may include a metal wiring formed on a substrate; a Ti film formed on the metal wiring; a TiN film formed on the Ti film; and an ultra-fine Ti film formed on the TiN.
申请公布号 US2008054492(A1) 申请公布日期 2008.03.06
申请号 US20070893866 申请日期 2007.08.17
申请人 DONGBU HITEK CO., LTD. 发明人 JEON DONG K.
分类号 H01L23/48;H01L21/44 主分类号 H01L23/48
代理机构 代理人
主权项
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