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发明名称
Verfahren zur Herstellung einer verspannten Silizium-Schicht auf einem Substrat und Zwischenprodukt
摘要
申请公布号
DE602004011353(D1)
申请公布日期
2008.03.06
申请号
DE200460011353T
申请日期
2004.10.19
申请人
S.O.I. TEC SILICON ON INSULATOR TECHNOLOGIES S.A.
发明人
LE VAILLANT, YVES-MATTHIEU
分类号
H01L21/762;H01L21/20
主分类号
H01L21/762
代理机构
代理人
主权项
地址
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