发明名称 |
清洁片及其输运元件、以及衬底处理设备清洁方法 |
摘要 |
一种清洁片,包括具有不低于1×10<SUP>13</SUP>Ω/□的表面电阻率的清洁层。在一种制造具有清洁功能的输运元件的方法中,将清洁片借助一普通粘结层粘到该输运元件上以具有比该输运元件的形状大的形状,然后沿该输运元件的形状切割该清洁片,在该清洁片中由借助作用能量聚合/固化的粘结剂形成的清洁层设置在基体材料的一个表面上,且一普通粘结层设置在其另一表面上,其中,该清洁层的聚合/固化反应在该清洁片被切割成该输运元件的形状后进行。 |
申请公布号 |
CN100372619C |
申请公布日期 |
2008.03.05 |
申请号 |
CN01812486.0 |
申请日期 |
2001.05.08 |
申请人 |
日东电工株式会社 |
发明人 |
并河亮;寺田好夫;丰田英志 |
分类号 |
B08B1/00(2006.01);B08B7/00(2006.01);C09J7/02(2006.01) |
主分类号 |
B08B1/00(2006.01) |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 |
代理人 |
李晓舒;魏晓刚 |
主权项 |
1.一种清洁片,包括具有大于1×1013Ω/□的表面电阻率的清洁层。 |
地址 |
日本大阪府 |